A Toshiba és a Sony együttműködési megállapodást írt alá a 45 nanométeres csíkszélességű gyártástechnológia közös fejlesztésére. A két japán óriásvállalat 20 milliárd jent (körülbelül 37,9 milliárd forint) szán a tervek szerint 2005 végére lezáruló projekt megvalósítására. A cél: a világon elsőként bevezetni az új gyártási eljárást.

A Sony és a Toshiba 2001 óta dolgozik közösen gyártástechnológia-fejlesztési projekteken, melyek első kézzelfogható eredménye a 65 nanométeres csíkszélesség korai alkalmazása volt. A Toshiba idén tavasszal az elsők között kezdi meg egyes rendszer LSI-k (nagyfokú integráltságú áramkör) tesztgyártását az új technológiával, melyet sorozatgyártásban az év második felétől használ majd. E korábbi projekt sikerére épít a ma megkötött együttműködés, melynek keretében a két vállalat 150 mérnöke dolgozik együtt a Toshiba yokohamai és oitai központjában a 45 nanométeres megoldások fejlesztésén.