Gyulai József, a Magyar Tudományos Akadémia Természettudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézetének Széchenyi-díjas professzora, a Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem professor emeritusa kapta idén az életmű elismeréséért járó Honoris causa Jedlik Ányos-díjat.

A Jedlik Ányos-díjat a Magyar Szabadalmi Hivatal (ma: Szellemi Tulajdon Nemzeti Hivatala) elnökének kezdeményezésére az ipari és kereskedelmi miniszter alapította 1996-ban, a magyar szabadalmi rendszer centenáriumi évében, a kimagaslóan sikeres feltalálói tevékenység, valamint a kiemelkedő színvonalú és hatékonyságú iparjogvédelmi munkásság elismerésére.

Arról, hogy mivel is érdemelte ki sok más díj után ezt is, Gyulai József a magyar közszolgálati rádiónak adott interjújában beszélt. Elmondta, hogy 1969 és 1978 között többször dolgozott a Kaliforniai Műszaki Egyetemen, és ott amerikai kollégájával dolgoztak ki három, a félvezetőgyártásban máig használt eljárást, amelyet azonban amerikai kollégája tanácsára nem védettek le, mivel társa úgy vélte, hogy gyakorlatilag lehetetlen bizonyítani a visszaélést. Ezt a professzor később megbánta, mivel egy másik amerikai kollégája is hasonló cipőben járt, ám ő a reménytelennek látszó védelem ellenére is szabadalmaztatta a saját eljárását. Az illetőnek aztán sokáig senki nem fizetett semmit, ám végül beperelte a legnagyobb bitorlót, az Intelt, és 16 évig tartó per után nyert, az Intel fizetett, a mérnök pedig milliomos lett.

Gyulai József az interjú során nem tért ki a konkrét eljárásokra, de a Wikipedia alapján valószínűleg a következőkről lehet szó: „Nevéhez fűződik az félvezetőkön, illetve vékonyfilmeken alkalmazott ionimplantációs kutatások magyarországi bevezetése és meghonosítása. E területen elért eredményeinek egy része beépült a 21. század eleji mikroelektronikai, illetve nanotudományi technológiákba. Az egyik ilyen felismerése, amely az Intel egyik eredményével párban a szilíciumkristály-ipart késztette technológiaváltásra (méghozzá 111-orientációjú kristályról az 100-ra való tömeges átállásra). Másik jelentős eredménye, hogy az ionimplantációs adalékolás a fizikai tudomány kísérleti eszközéből a félvezető-technológiában ipari eljárás lett. Ezzel hozzájárult a Moore-törvény teljesüléséhez. Több eredményét alkalmazzák a minősítési módszereknél és a komplett integrált áramköri rendszereknél is.”